Mục đích chính của máy tổng hợp huỳnh quang tia X Việt Nam

Máy nung chảy huỳnh quang tia X là một thiết bị chuẩn bị mẫu để nung chảy thủy tinh bằng phương pháp nung chảy thủy tinh, AAS, ICP và phân tích huỳnh quang tia X. Về cơ bản, nó loại bỏ hiệu ứng khoáng chất và hiệu ứng hấp thụ tăng cường của ma trận, có độ chính xác cao và độ chính xác tốt. Các phương pháp gia nhiệt được sử dụng để nung chảy ở nhiệt độ cao là: gia nhiệt bằng khí, gia nhiệt bức xạ điện trở và gia nhiệt cảm ứng tần số cao.

Công dụng chính của máy nấu chảy huỳnh quang tia X bao gồm:

1. Chuẩn bị mẫu rắn thành mẫu thủy tinh nóng chảy để phân tích XRF.

2. Trộn đều các mẫu bột với chất trợ dung và làm tan chảy hoàn toàn để cải thiện khả năng lặp lại của phép phân tích.

3. Cải thiện tính đồng nhất của mẫu và nâng cao độ chính xác của thử nghiệm.

4. Có thể chuẩn bị các mẫu nóng chảy có nhiều hình dạng khác nhau để đáp ứng nhiều loại buồng mẫu và nhu cầu thử nghiệm khác nhau.

5. Thường được sử dụng để phân tích thành phần của nguyên liệu thô và sản phẩm trong các ngành công nghiệp như khai khoáng, luyện kim, bảo vệ môi trường, xi măng và gốm sứ.

6. Cũng có thể được sử dụng để phát hiện thành phần của vật liệu công nghệ cao như hợp kim, vật liệu đất hiếm và vật liệu bán dẫn.

7. Chuẩn bị mẫu để chứng nhận đo lường chất chuẩn.

8. Chuẩn bị mẫu giám sát và mẫu kiểm soát để gỡ lỗi thiết bị và kiểm soát chất lượng.

9. Theo yêu cầu của ngành và ứng dụng, bạn có thể lựa chọn các mức công suất và mức độ tự động hóa khác nhau của các mẫu máy hàn.

10. Chất lượng của mẫu nung chảy ảnh hưởng trực tiếp đến kết quả phân tích XRF tiếp theo.

Tóm lại, máy huỳnh quang tia X là thiết bị xử lý mẫu trước rất quan trọng trong phân tích XRF.